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用途：該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝，具有自動上下料、自動定位，自動沖切等功能，滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
隨著半導體行業發展，砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料，對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統獨立濕處理工藝槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基礎上，新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優化設置，配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升，同時保持與行業廠商、學校研究院所的積極聯合探索和設備定制。
有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置，機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
思恩半導體是專業制造基于SEMI標準、具有國際CE認證、與國際先 進水平同步的基片濕處理系統、微電子自動化設備及相關零部件的企業。我們擁有美國和中國專利，并能為中國市場上制造與國外高科技同步的半導體設備而感到自豪。思恩生產的設備包括全自動/半自動/手動基片濕處理系統，異丙醇干燥機系統，化學供液系統，零部件清洗系統，多層陶瓷加工設備等。企業秉承BEST!(Better price更合理的價格, Excellent service更優 質的服務, Superior quality更出眾的品質, Total solution全 方位的解決方案)。
More化學品通風柜是一種用于實驗室等場所，通過通風系統將有害氣體、蒸汽、粉塵等污染物排出室外，以保護實驗人員健康和實驗室環境的設備。它廣泛應用于以下行業： 1.化學化工行業 研發實驗室：在化學化工產品的研發過程中，科研人員需要進行各種化學反應實驗，會使用到多種化學品，產生有害氣體。通風柜能及時排出這些有害氣體，確保實驗人員的安全和實驗環境的穩定。
2025-04-22?
全自動硅片清洗機是一種用于半導體硅片清洗的專業設備，以下從其結構、原理、特點和應用等方面進行介紹： 1.結構組成 清洗槽：通常采用耐腐蝕的材料制成，是容納清洗液和硅片的主要部件，內部設有不同的區域，用于完成不同的清洗步驟，如預清洗、主清洗、漂洗等。
2025-04-15?
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